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產(chǎn)品中心/ PRODUCTS

  • 等離子式廢氣凈化器

    低溫等離子式廢氣凈化器主要采用輝光放電、微波放電、電暈放電等方法產(chǎn)生高濃度離子。放電的強(qiáng)度與工作室氣壓比較值較高。通常輝光放電中氣體壓強(qiáng)遠(yuǎn)低于大氣壓(約10-8—10-4標(biāo)準(zhǔn)大氣壓〉,因而氣體粒子數(shù) 密度低,粒子間碰撞耦合弱,電子在外電場加速作用下獲取的能量不能及時傳遞給重粒子。

    更新時間:2024-08-21
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
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  • XK-YW5光催化氧化廢氣凈化設(shè)備

    光催化氧化廢氣凈化設(shè)備(一重破壞、分解,三重催化氧化):破壞–1、采用UV電磁輻射和穿透力、微波催化燃燒功能對廢氣進(jìn)行微波輻射和破壞,使所有有機(jī)物廢氣的分子鏈打斷,裂解、改變物質(zhì)結(jié)構(gòu),將高分子污染物質(zhì),裂解、分解成為低分子無害物質(zhì),如水和二氧化碳等。

    更新時間:2024-08-21
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
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  • 噴涂廢氣光氧催化處理

    噴涂廢氣光氧催化處理(一重破壞、分解,三重催化氧化):破壞–1、采用*UV電磁輻射和穿透力、微波催化燃燒功能對廢氣進(jìn)行微波輻射和破壞,使所有有機(jī)物廢氣的分子鏈*打斷,裂解、改變物質(zhì)結(jié)構(gòu),將高分子污染物質(zhì),裂解、分解成為低分子無害物質(zhì),如水和二氧化碳等。2、采用高能C波段(僅次于切割不銹鋼的激光,強(qiáng)于氬弧焊光源的數(shù)十倍強(qiáng)度)在設(shè)備內(nèi),強(qiáng)裂解惡臭物質(zhì)分子鏈,改變物質(zhì)結(jié)構(gòu),將高分子污染物質(zhì),

    更新時間:2024-08-21
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
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  • 低溫等離子廢氣凈化設(shè)備

    低溫等離子廢氣凈化設(shè)備主要采用輝光放電、微波放電、電暈放電等方法產(chǎn)生高濃度離子。放電的強(qiáng)度與工作室氣壓比較值較高。通常輝光放電中氣體壓強(qiáng)遠(yuǎn)低于大氣壓(約10-8—10-4標(biāo)準(zhǔn)大氣壓〉,因而氣體粒子數(shù) 密度低,粒子間碰撞耦合弱,電子在外電場加速作用下獲取的能量不能及時傳遞給重粒子。

    更新時間:2024-08-21
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
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  • 化工廢氣光氧催化處理

    化工廢氣光氧催化處理(一重破壞、分解,三重催化氧化):破壞–1、采用*UV電磁輻射和穿透力、微波催化燃燒功能對廢氣進(jìn)行微波輻射和破壞,使所有有機(jī)物廢氣的分子鏈*打斷,裂解、改變物質(zhì)結(jié)構(gòu),將高分子污染物質(zhì),裂解、分解成為低分子無害物質(zhì),如水和二氧化碳等。2、采用高能C波段(僅次于切割不銹鋼的激光,強(qiáng)于氬弧焊光源的數(shù)十倍強(qiáng)度)在設(shè)備內(nèi),強(qiáng)裂解惡臭物質(zhì)分子鏈,改變物質(zhì)結(jié)構(gòu),將高分子污染物質(zhì),

    更新時間:2024-08-21
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
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  • 微波氧化廢氣凈化設(shè)備

    低溫等離子廢氣凈化設(shè)備特點(diǎn)?采用高﹑低壓集塵板分離的人性化設(shè)計 ?之*放電設(shè)計,提升離子化的效率 ?更多的收集面積,且安裝體積小 ?新一代固態(tài)高壓產(chǎn)生器

    更新時間:2024-08-21
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
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  • XK-YW5光催化氧化廢氣凈化器

    光氧廢氣處理裝置(一重破壞、分解,三重催化氧化):破壞–1、采用*UV電磁輻射和穿透力、微波催化燃燒功能對廢氣進(jìn)行微波輻射和破壞,使所有有機(jī)物廢氣的分子鏈*打斷,裂解、改變物質(zhì)結(jié)構(gòu),將高分子污染物質(zhì),裂解、分解成為低分子無害物質(zhì),如水和二氧化碳等。2、采用高能C波段(僅次于切割不銹鋼的激光,強(qiáng)于氬弧焊光源的數(shù)十倍強(qiáng)度)在設(shè)備內(nèi),強(qiáng)裂解惡臭物質(zhì)分子鏈,改變物質(zhì)結(jié)構(gòu),將高分子污染物質(zhì),

    更新時間:2024-08-21
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
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